alvo de pulverização de titânio
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alvo de pulverização de titânio

Nome do produto: alvo de pulverização de titânio
Material:
2. Titânio puro: GR1 GR2
2. liga de titânio: titânio Gr5, titânio alumínio TiAl, titânio níquel TiNi, titânio cromo TiCr, titânio zircônio TiZr, cobre titânio TiCu etc.
Pureza 99,5 por cento, 99,95 por cento, 99,98 por cento, 99,995 por cento.
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Introdução de Produto

Gr1 Gr2 TiAl TiCr TiCu Talvo de pulverização de itânio


Alvos de titânio/alvo de pulverização de titânio são amplamente utilizados: quando componentes eletrônicos (como armazenamento de CD comum), diodos semicondutores, nanomateriais de filme de cristal líquido de monitor de computador, aeroespacial militar e outros produtos de precisão, é necessário revestir uma camada de filme na superfície para obter resistência à corrosão e resistência ao desgaste. Finalidade, quando a espessura do filme está no nível de mícron e nanômetro, a tecnologia de revestimento tradicional obviamente não pode atingir essa precisão.


Nome do Produto:Alvo de pulverização de titânio, alvo de pulverização de TiAl, alvo de pulverização de TiCr, alvo de pulverização de TiCu, alvo de pulverização de TiSi, zircônio alvo de pulverização, alvo de pulverização cromado, alvo de pulverização de molibdênio


Material:Gr1 Gr2 Gr5 titânio,TiAl, TiCr, TiCu,,TiSi,Mo,Cr etc.


O tamanho comum do alvo de pulverização de titânio :Φ100*40, Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 etc.

Também pode personalizar de acordo com solicitações ou desenhos do cliente


Requisitos de destino:alta pureza, grãos de cristal uniformes e boa compacidade.

titanium sputtering targets65 

Princípio do revestimento a vácuo:

Os íons gerados pela fonte de íons de baixa tensão e alta corrente são acelerados no vácuo para formar uma corrente de íons de alta velocidade, bombardear a superfície sólida e trocar energia cinética entre os íons e os átomos na superfície sólida, de modo que os átomos na superfície sólida deixam o alvo e se depositam na superfície do substrato. A formação de filme nanométrico (ou micrômetro). O sólido bombardeado é a matéria-prima para a deposição de filmes finos por sputtering, que é chamado de material sputtering. Portanto, o alvo é um consumível.


Ti factory 9

Baoji Lihua Metais Não Ferrosos Co., Ltdé uma empresa de importação e exportação, fundada em 2006, localizada na cidade de Baoji, conhecida como "O Vale do Titânio da China". Com 15 anos de experiência em produção e exportação, a empresa é certificada pela ISO 9001:2015, e muitos de nossos produtos passaram pela certificação de terceiros, como TUV, BV, SGS tec. Os alvos de pulverização de titânio são produzidos de acordo com os padrões internacionais ou de acordo com os requisitos e desenhos do cliente. A superfície é limpa e lisa, sem descascamento, dobras, poros, rachaduras e outros defeitos, com boa composição química e propriedades físicas. A qualidade atingiu o padrão de exportação.


Embalagem:

Cada alvo de pulverização é embalado a vácuo e o exterior é embalado em caixas de madeira compensada de exportação padrão.

Titanium Sputtering Targets  (32)

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